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Weniger Streulicht bei der Plattenbelichtung
Donnerstag 11. Juli 2002 - Mit der Brillia LP-N3 hat die Fuji Photo Film (Europe) GmbH eine neue hochempfindliche Photopolymer-Offsetplatte für die CTP-Belichtung vorgestellt.
Sie ist speziell auf den ebenfalls neu entwickelten Entwickler LP-DS und das Regenerat für Entwickler LP-DRCK abgestimmt und ausschließlich mit diesen Chemikalien zu betreiben. Die neue LP-N3 wird die bisher erhältliche LP-NS2 ablösen. Eine gemischte Verarbeitung beider Platten ist nicht möglich. Lieferbar ist die Brillia LP-N3 in den Stärken 0,15, 0,20 und 0,30 sowie nach Sonderbestellung auch in den Stärken 0,24 und 0,40 mm.
Die oft während der Belichtung durch Streulicht auftretende Schleierbildung unterbleibt bei der neuen Photopolymerplatte. Ihre hoch lichtempfindliche Schicht im Zusammenspiel mit dem Entwickler LP-DS reduziert Streulicht, das durch Laserreflektion und auch durch Restlicht bedingt ist. In der Folge konnten nach Angaben des Herstellers gleichermaßen Belichtungsspielraum wie Bildqualität verbessert werden.
In der Druckmaschine läßt sich die Brillia LP-N3 mit den gleichen Materialien einsetzen wie die Vorgängerin LP-NS, also mit Feuchtwasserzusatz, Druckfarbe und – hilfsmittel. Die Platte ist uneingebrannt zusammen mit UV-Farben verwendbar. Bei Einsatz von gestrichenen Papiersorten liegt die Auflagenfestigkeit ohne Einbrennen zwischen 100.000 und 200.000 Drucken.
