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Fujifilm verkündet Markteinführung der Brillia HD LH-PXE

Donnerstag 01. März 2012 - Fujifilm hat die Markteinführung der Brillia HD LH-PXE bekannt gegeben - eine positiv arbeitende thermale CTP-Druckplatte für hohe Auflagen im Bogen- und Rollenoffset.

Dieser neueste Zuwachs zu Fujifilms berühmter „lo-chem“ Produktfamilie ermöglicht schon uneingebrannt sehr hohe Auflagen bis zu 500.000 Umrollungen und im eingebrannten Zustand sogar extreme Hochauflagen von über 1.000.000. Auf der drupa 2012 in Düsseldorf (3. bis 16. Mai) können sich die Besucher über die Druckplatte, die im zweiten Quartal 2012 erhältlich sein wird, auf dem Fujifilm Stand in Halle 8b, im Beeich für den Akzidenzdruck informieren.

Diese neue Druckplatte besitzt all die Qualitäts- und Stabilitätsvorteile, die Fujifilms „High Definition Beschichtungstechnologien“ mit sich bringen und ermöglicht obendrein die vorteilhafte chemiearme Verarbeitung. Des weiteren profitiert sie von Fujifilms jüngster elektrochemischer Aufrauhungstechnologie.

Fujifilms Brillia HD LH-PXE ist die neueste Generation hochqualitativer, chemiearmer Thermaldruckplatten. Gefertigt auf einem neuen robusten Aluminium, hält sie den Beanspruchungen bei hohen Druckauflagen stand und reduziert kostenintensive Ausfallzeiten und die Produktion von Ersatzplatten, die aufgrund von Plattenrissen oder Brüchen entstehen können.

Die ausgefeilten Platteneigenschaften der Brillia HD LH-PXE sind auf eine neue Doppelschicht-Emulsion zurückzuführen, was sowohl eine bessere Standfestigkeit als auch die Reduzierung der Herstellung von Ersatz- und Austauschplatten zur Folge hat. Die hochempfindliche Emulsion benötigt nur ein Minimum an Laserleistung und ermöglicht so auch schnellste Druckplattenbelichtungen (belichterabhängig).

Hohe Druckauflagen können ohne Einbrennen erzielt werden, nichtsdestotrotz kann die Platte für noch höhere Auflagen und erweiterte Chemieresistenz auch eingebrannt werden. Das gibt den Anwendern die nötige Flexibilität, um ihre jeweiligen Anforderungen zu erfüllen.

Brillia HD LH-PXE ist kompatibel zu Fujifilms preisgekrönter „FLH-Z (ZAC) Entwicklungsmaschine“, die es Anwendern ermöglicht, ihren Chemieverbrauch drastisch zu reduzieren, Entwicklerstandzeiten zu maximieren und Reinigungszeiten zu verkürzen.

www.fujifilm.de
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